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次世代スマートチャレンジ（事業化アイデア公募）
09:00
次世代スマートチャレンジ（事業化アイデア公募）
12月 4 2015 @ 09:00 – 3月 25 2016 @ 17:00
「京都スマートシティエキスポ2016」の新規プログラムとして、学生、若手研究者やベンチャー企業を対象にスマートシティの形成に向けた斬新で創造的な事業化アイデアを募集する「次世代スマートチャレンジ」を実施します。 皆様からの積極的なご応募をお待ちしております。 １ 内容 次世代を担う若手研究者等からスマートシティの形成に向けた斬新で創造的な事業化アイデアを募集し、優秀アイデアを同エキスポで表彰するとともに、同エキスポのスポンサー企業が事業化の可能性を検討する。 ２ 募集期間 平成27年12月４日(金)～平成28年３月25日(金)17:00まで ３ 応募資格 学生、若手研究者、ベンチャー企業のグループまたは個人 ４実施方法 ◆書類審査（一次審査） 平成28年４月中旬（予定） ◆二次審査 〈日付〉 平成28年６月１日（水） 〈場所〉 国立京都国際会館（京都市左京区） 〈内容〉 一次審査通過者によるプレゼンテーション審査を行い、優秀提案を京都スマートシティエキスポ運営協議会が表彰 ◆事業化チャレンジ 〈日付〉 平成28年６月２日（木） 〈場所〉 けいはんなオープンイノベーションセンター(KICK)（木津川市・精華町） 〈内容〉 二次審査の優秀提案者が京都スマートシティエキスポのサポーター企業等に対しプレゼンテーションを行い、サポーター企業が提案内容を評価し、事業化の可能性を検討 【参考】 「京都スマートシティエキスポ2016」概要 〈期間〉 平成28年６月１日(水)～６月３日(金) 〈会場〉 国立京都国際会館／けいはんなオープンイノベーションセンター(KICK)他 〈内容〉 ・国際シンポジウム ・スマートシティメッセinけいはんな（「企業・団体等展示」、「スマートシティセミナー」、「次世代スマートチャレンジ」、「けいはんなラボトリップ」） なお、実施要綱、応募方法等詳細につきましては、公式ホームページをご覧下さい。 公式ＨＰ：http://expo.smartcity.kyoto/challenge/
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「クリエイション・コア東大阪」入居者募集
「クリエイション・コア東大阪」入居者募集
1月 15 – 1月 25 終日
「クリエイション・コア東大阪」入居者募集のご案内 http://www.smrj.go.jp/incubation/kobo/082078.html （中小機構 近畿 クリエイション・コア東大阪） 「クリエイション・コア東大阪」はモノづくりの集積地「東大阪」に立地し、”新技術の研究開発”や”新事業の創出”を目指す起業家及び中小企業を応援する公的施設です。 この度、新たに入居者を募集します。 見学希望の方は下記お問い合わせ先まで御連絡ください。 【受付期間】平成28年1月15日(金)～1月25日(月) 【入居開始】平成28年3月中旬（予定） 【場 所】南館：大阪府東大阪市荒本北1丁目4番1号 ・近鉄けいはんな線荒本駅より徒歩5分 ・大阪市営地下鉄長田駅より徒歩10分 http://www.smrj.go.jp/incubation/higashi-osaka/ 【募集区画】南館 55平方メートル：1室（実験研究タイプ） 【お問合せ先及びお申込先】（独）中小企業基盤整備機構 クリエイション・コア東大阪 IM室（担当：田中・丸尾） TEL：06-6748-1009 FAX：06-6745-2385
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NEDOエネルギー・環境新技術先導プログラム「高品質／高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発」シンポジウム～ ミストデポジション法の科学と応用 ～
13:00
NEDOエネルギー・環境新技術先導プログラム「高品質／高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発」シンポジウム～ ミストデポジション法の科学と応用 ～
1月 18 @ 13:00 – 19:00
省エネルギーの成膜技術として待望されている「非真空成膜プロセス」の重要性から、ミストデポジション法に焦点をあて、 実用化可能な技術・装置の開発を目指して、ミストの挙動、成長・成膜の機構、技術の実用化展開に関して研究開発を進めております。 このたび成果の一部を公開し、今後の技術展開を図るためのご示唆を頂戴いたしたく、シンポジウムを企画いたしました。 本技術への関心をいただく多数の方のご参加をお待ちしております。 詳細に関するホームページ http://www.pesec.t.kyoto-u.ac.jp/ematerial/mistsymp/ ■日 時：平成28年1月18日 (月) 13:00 ～ 19:00 ■会 場：京都リサーチパーク 西地区4号館2階 ルーム2 ■参加費：無料（17：00～の交流会は会費5,000円） ■講演プログラム（13：00～17：00） ●開会挨拶 近畿経済産業局 地域経済部 次世代産業課 産学官連携推進室長 平田 省司 氏 国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 イノベーション推進部 フロンティアグループ 主査 前田 周 氏 ●ミストCVD法による酸化物半導体のエピタキシャル成長 京都大学 工学研究科 教授 藤田 静雄 氏 ●大気圧下における高品質薄膜作製のための高度制御技術 高知工科大学 総合研究所 准教授 川原村 敏幸 氏 ●大気圧下におけるミスト液滴の挙動 東京大学 生産技術研究所 特任准教授 苷蔗 寂樹 氏 ●MIST EPITAXY技術を用いたGa2O3パワーデバイスの事業化 株式会社FLOSFIA 代表取締役 人羅 俊実 氏 ●パネルディスカッション「ミストCVD法の産業展開」 コーディネータ 公益財団法人京都高度技術研究所 地域イノベーション戦略推進部 地域連携コーディネータ 高山 卓之 氏 ●閉会挨拶 京都大学 工学研究科 教授 平尾 一之 氏 ■ポスターセッションおよび意見交換会（17:00～19：00） ※別途、交流会費5,000円が必要です（当日徴収） ■主催 高品質／高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発 研究推進委員会 （構成：京都大学、高知工科大学、東京大学、株式会社FLOSFIA） ■お問合せ先 研究推進委員会事務局（株式会社フューチャーラボラトリ 担当：山田） mistcvdsymp@futurelaboratory.jp ■お申込み方法 以下をご記入の上、E-mailでお送りください 送信先：mistcvdsymp@futurelaboratory.jp ・会社・団体名 ・郵便番号 ・住所 ・電話番号 ・お名前 ...
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「クリエイション・コア京都御車」入居者募集
「クリエイション・コア京都御車」入居者募集
@ クリエイション・コア京都御車
1月 21 – 1月 29 終日
このたび、クリエイション･コア京都御車では居室の入居公募を行います。 賃貸事業スペースをご検討中の方は、ぜひ一度お問合せください。 また、中小機構では入居申込者紹介制度（報奨金制度）を設けております。 事業スペースをお探しの方をご存じの方もぜひ一度お問い合わせください。 １．公募する施設の名称及び居室 クリエイション・コア京都御車 61平方メートル1室（実験研究開発室） 54平方メートル1室（オフィス研究開発室） 42平方メートル1室（オフィス研究開発室） ２．所在地 京都市上京区御車道通清和院口上ル東側梶井町448番5 （京阪電車「出町柳駅」下車、徒歩約5分） ３．受付期間 平成28年1月21日（木）～1月29日（金） ※上記期間内の申込において入居者が決定しない場合は、順次受付を行います。 詳細： http://www.smrj.go.jp/incubation/cckm/ 「京都御車」で検索してください。 【お問合せ先及びお申込み先】 独立行政法人中小企業基盤整備機構 クリエイション・コア京都御車 ＩＭ室（担当：山戸） 〒602-0841 京都市上京区河原町通今出川下る梶井町448番5 電話 075-253-5242 FAX 075-255-4684 E-Mail ： info＠cckm.jp
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